terça-feira, 17 de janeiro de 2012

Risqué monta lounge no SPFW para divulgar lançamentos


Empresa patrocinadora do evento terá espaço onde exibirá tendências para o Outono/Inverno. Modelos usarão esmaltes da marca em mais de 20 desfiles:

Risqué monta lounge no SPFW para divulgar lançamentos

A Risqué é mais uma vez patrocinadora oficial da São Paulo Fashion Week, realizada a partir desta quinta-feira, dia 19, até o dia 24. O objetivo da marca de esmaltes da Hypermarcas é mostrar-se atenta ao fashion business e reforçar a estratégia de antecipar tendências. A empresa mantém a parceria com o estilista Reinaldo Lourenço e desenvolveu esmaltes em conjunto com o profissional, que serão usados pelas modelos no desfile. Está será a 15ª coleção da Risqué assinada por Lourenço, com lançamento previsto para março.

Para ativar a marca na 32ª edição do evento, um lounge aberto ao público mostrará esmaltes clássicos e a linha Risqué Technology. O espaço também divulgará o novo Risqué Technology Cobertura Brilhante, que promete secagem em 30 segundos e durabilidade de 10 dias. Seis profissionais estarão à disposição para pintar as unhas das visitantes com cerca de 70 cores do portfólio. Outra novidade exibida no lounge será a técnica de aplicação de esmaltes Ombré, aposta da marca para este ano. O método é um degradê de cores, sem uma linha definida. O efeito pode ser obtido com o uso de diferentes tonalidades combinadas.

O lounge também tem uma área Vip para convidados testarem os esmaltes da marca para o Outono/Inverno. Uma atração do espaço é o Painel dos Estilistas, com amostras de todos os produtos Risqué utilizados pelas modelos nos desfiles, compondo um mural de cores que pretende consolidar as tendências da próxima estação. Mais de 20 estilistas usarão os esmaltes da marca nos desfiles da SPFW,  como Animale, Osklen, Triton e Cavalera. Ainda na área Vip, por meio de uma parceria, o Bar Zero-Cal servirá bebidas com o adoçante, entre sucos, caipirinhas e cafés, e um chef mostrará receitas de drinks feitos com o produto.  


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